10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。
成本是相当的高。
后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。
以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。
让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。
也就是接近式的光刻机。
但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。
所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。
直接用上了1974年才出来的投影技术。
这玩意成本还挺高的，需要不少的光学器件，都需要从日本进口。
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