和后世的用计算机和EDA软件设计不同的是，这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。
初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。
再用精细的刀片在光掩模母版上，徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。
最后用母版图形，用相机缩小50到100倍。
才能用一张用来做光刻的光掩模。
和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。
这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。
掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。
但是这种光照方式的失败率和成本都很高。
因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。
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