和后世的用计算机和EDA软件设计不同的是,这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。

        初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。

        再用精细的刀片在光掩模母版上,徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。

        最后用母版图形,用相机缩小50到100倍。

        才能用一张用来做光刻的光掩模。

        和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。

        这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。

        掩模涂层与光刻机涂层直接接触,再打光照射,完成曝光。

        但是这种光照方式的失败率和成本都很高。

        因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒,不仅影响效果,还会对光掩模造成损伤。

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