一边说，一边将自己带来的手提箱子拿了出来。
斯波克闻言拿起来其中一本，在那里看了起来。
“接近式光刻？
掩膜与晶圆间保留氮气间隙，减少污染但受衍射效应限制，分辨率约2μm
投影光刻？
采用缩小倍率投影物镜，分辨率显著提升。后续发展方向为步进重复光刻（掩膜固定，晶圆步进运动）。
步进扫描技术：为适应芯片面积增大和线宽缩小（如0.25μm以下），采用动态扫描方式，掩膜与晶圆同步运动，提升曝光均匀性。……”
看了一会，斯波克猛抬起头来。
王青松轻轻点了点头。
接近式光刻技术是第二阶段流行的技术。
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